不导电（NCVM）膜镀膜设备

在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（锡丝、铟银合金丝）熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（NCVM）。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高,独有镀透电极设计，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度。

参数说明：

设备型号

SJ-1200

SJ-1400

SJ-1600

SJ-1800

真空室尺寸

1200×1500

1400×1900

1600×2000

1800×2000

制膜种类

不导电锡、半透明膜、铝

电源类型

电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源

真空室结构

立式双开门、立式单开门、

真空系统

滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵

极限真空

8×10－4pa（空载、净室）

抽气时间

空载大气抽至5×10－2pa小于6分钟。

工件旋转方式

6轴/8轴/9轴/莲花架/公自转/变频无级调速

控制方式

手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC

备注

真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做