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型号 |
ZZS500 |
ZZS630 |
ZZS700 |
ZZS800 |
ZZS900 |
ZZS1100 |
ZZS1300 |
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镀膜室尺寸 |
φ500×650 |
φ630×750 |
φ710×850 |
φ800×900 |
φ900×1000 |
φ1100×1300 |
φ1300×1500 |
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极限真空度
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8×10-4 |
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恢复真空
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5×10-3pa<15min |
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真空系统配制
(泵型号) |
Tk300+ 2X-15 |
K400+ 2X-30 |
TK-500+ 2X-70 |
K600+ 2X-70 |
K630+ ZJP150+ 2X-70 |
2-K500+ ZJP300+ 2X-70 |
2-K600+2X-15 +ZJP300 +2-2X-70 |
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工件转速
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3～30rpm |
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烘烤
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上烘烤或下烘烤，最高温度350℃可调，发热元件为管状加热器或溴钨灯 |
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蒸发源 |
电阻蒸发源
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两只、每只4.5kw(8V、600A)（或根据要求配制） |
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电子束蒸发源
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E型电子枪；束偏转角270℃，功率4kw-10kw |
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离子轰击
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直流电压3KV，功率0.6KW或1KW，棒状阴极 |
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光学膜厚监控系统
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波长范围350～850nm(可选配350～2000nm)，膜厚控制仪、光学膜厚监控仪、自动六位比较片；单色仪：WD-30光删单色仪；光路系统：6º倾斜返射/反光光路，光纤耦合输出。 |
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充气系统
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自动压强控制仪，自动2～5×10-4pa |
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其它选配项 |
可选取真空系统，夹具选配，烘烤元件、XTC/2或IC5石英晶体膜厚仪，质量流量计等 |
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压缩空气 |
0.4～0.8MPa |
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水冷系统 |
水压/水温：≤25℃
/ ≥0.25Mpa |
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离子源（选配） |
选配射频型离子源、霍尔离子源、考夫曼离子源。用于电镀前清洗或电镀过程进行辅助镀，有利于提高膜层折射率，牢固度、提高膜层致密性、附着力。
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手操器 |
带磁底座，可安置在真空室门及控柜任意位置。 |
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功率power |
15KW |
18KW |
25KW |
30KW |
35KW |
45KW |
55KW |
